真空镀膜系统

真空镀膜系统

真空镀膜系统

MBRAUN研发出一系列镀膜系统,配合多种可选配件和定制化方案,用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺,如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案;以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.

MINIvap

可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)

  • 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板
  • 紧凑型设计
  • 低成本、经济型方案
  • 交货快
  • 安装简单、方便
  • 易于工艺改造和提升

PROvap

  • 集成手套箱
  • 紧凑型设计
  • 经济型解决方案
  • 配置简单
  • 多源共蒸
  • 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
  • 两种型号可选: PROvap 4G 和 PROvap 5G
  • 最多可实现8源共蒸
  • PROvap 4G可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
  • PROvap 5G可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

UNIvap

  • 可单独使用
  • 紧凑型设计
  • 经济型解决方案
  • 多源共蒸
  • 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
  • 两种型号可选: UNIvap 4S 和 UNIvap 5S
  • 最多可实现8源共蒸
  • UNIvap 4S可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
  • UNIvap 5S可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

OPTIvap

  • 模块化设计
  • 可单独使用(S)或集成于手套箱(G)
  • 不同的模块之间可实现自由组合
  • 多基板&多掩模工艺
  • 一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)
  • OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板
  • OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板

 

应用:

  • 复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)
  • 光学镀膜
  • 光伏、半导体行业

MINIPEROvap

小型PVD腔室,专门用于钙钛矿蒸镀

  • 可集成于MBRAUN 手套箱(由过渡舱实现连接)
  • 紧凑型设计
  • 可用于50x50 mm大小的基板
  • 可实现多源共蒸(4个蒸发源)
  • 膜厚一致性标准偏差在+/-5%区间
  • 经济型方案
  • 交货快
  • 有利于工艺改进和提升

 

PEROvap

专门用于钙钛矿蒸镀

  • 研发型理想方案
  • 专业的系统设计
  • 前驱体专用蒸发源
    • 低温环境下可保持高度稳定性
  • 标准化工艺流程
    • 高真空环境
    • 无交叉污染
  • 可实现重复操作
  • 可用于多种材料处理
  • 设备使用寿命较长
  • 专利申请中

In order to optimize our website for you and to be able to continuously improve it, we use cookies. By continuing to use the website, you agree to the use of cookies. Further information on cookies can be found in our Data Protection.

OK