真空镀膜系统

真空镀膜系统

真空镀膜系统

MBRAUN研发出一系列镀膜系统,配合多种可选配件和定制化方案,用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺,如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案;以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.

MINIvap

可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)

  • 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板
  • 紧凑型设计
  • 低成本、经济型方案
  • 交货快
  • 安装简单、方便
  • 易于工艺改造和提升

PROvap

  • 集成手套箱
  • 紧凑型设计
  • 经济型解决方案
  • 配置简单
  • 多源共蒸
  • 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
  • 两种型号可选: PROvap 4G 和 PROvap 5G
  • 最多可实现8源共蒸
  • PROvap 4G可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
  • PROvap 5G可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

UNIvap

  • 可单独使用
  • 紧凑型设计
  • 经济型解决方案
  • 多源共蒸
  • 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
  • 两种型号可选: UNIvap 4S 和 UNIvap 5S
  • 最多可实现8源共蒸
  • UNIvap 4S可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
  • UNIvap 5S可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

OPTIvap

  • 模块化设计
  • 可单独使用(S)或集成于手套箱(G)
  • 不同的模块之间可实现自由组合
  • 多基板&多掩模工艺
  • 一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)
  • OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板
  • OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板

 

应用:

  • 复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)
  • 光学镀膜
  • 光伏、半导体行业

MINIPEROvap

小型PVD腔室,专门用于钙钛矿蒸镀

  • 可集成于MBRAUN 手套箱(由过渡舱实现连接)
  • 紧凑型设计
  • 可用于50x50 mm大小的基板
  • 可实现多源共蒸(4个蒸发源)
  • 膜厚一致性标准偏差在+/-5%区间
  • 经济型方案
  • 交货快
  • 有利于工艺改进和提升

 

PEROvap

专门用于钙钛矿蒸镀

  • 研发型理想方案
  • 专业的系统设计
  • 前驱体专用蒸发源
    • 低温环境下可保持高度稳定性
  • 标准化工艺流程
    • 高真空环境
    • 无交叉污染
  • 可实现重复操作
  • 可用于多种材料处理
  • 设备使用寿命较长
  • 专利申请中