MBRAUN是为数不多能够满足ISO 2级(国际标准) 空气洁净度标准的供应商, 可提供水、氧含量<1ppm的箱体环境

•  更加洁净的箱体环境
• 最小化颗粒含量
• 综合提高生产效率
• 延长设备使用寿命
• 提升产品效率 (OLED, OPV,钙钛矿电池, 薄膜电池)

我们有经验丰富的工程师为您提供包括研发和制造在内的一整套解决方案，包括小型实验室装备和复杂的大型工业设备，为您提高综合生产效率.

可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)

• 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板
• 紧凑型设计
• 低成本、经济型方案
• 交货快
• 安装简单、方便
• 易于工艺改造和提升

• 集成手套箱
• 紧凑型设计
• 经济型解决方案
• 配置简单
• 多源共蒸
• 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
• 两种型号可选: PROvap 4G 和 PROvap 5G
• 最多可实现8源共蒸
• PROvap 4G可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
• PROvap 5G可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

• 可单独使用
• 紧凑型设计
• 经济型解决方案
• 多源共蒸
• 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
• 两种型号可选: UNIvap 4S 和 UNIvap 5S
• 最多可实现8源共蒸
• UNIvap 4S可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
• UNIvap 5S可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

• 模块化设计
• 可单独使用(S)或集成于手套箱(G)
• 不同的模块之间可实现自由组合
• 多基板&多掩模工艺
• 一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)
• OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板
• OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板

应用：

• 复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)
• 光学镀膜
• 光伏、半导体行业

小型PVD腔室，专门用于钙钛矿蒸镀

• 可集成于MBRAUN 手套箱(由过渡舱实现连接)
• 紧凑型设计
• 可用于50x50 mm大小的基板
• 可实现多源共蒸(4个蒸发源)
• 膜厚一致性标准偏差在+/-5%区间
• 经济型方案
• 交货快
• 有利于工艺改进和提升

专门用于钙钛矿蒸镀

• 研发型理想方案
• 专业的系统设计
• 前驱体专用蒸发源
  • 低温环境下可保持高度稳定性
• 标准化工艺流程
  • 高真空环境
  • 无交叉污染
• 可实现重复操作
• 可用于多种材料处理
• 设备使用寿命较长
• 专利申请中

大型气体净化单元

• 用于工艺复杂的大型箱体
• 专门用于工业领域
• 可连接至用户控制系统
• 模块化结构设计
• 集成溶剂吸附装置
• 可净化体积达220m³

MBRAUN研发出一种可连接至设备(通常为手套箱)的加湿器，湿度范围可调节 (5-70%)。加湿器配有循环风机并产生带有一定湿度的、水和空气的混合气流。原理类似于液态水蒸发后变成水蒸气一样。另外还可用于直接净化过滤器或去湿(箱体清洗或干燥)

MBRAUN 手套箱系统可以选配烘箱，在特定的温度条件下对敏感性材料进行干燥处理。MBRAUN所有的烘箱都是经过特殊设计的， 可集成于手套箱或单独使用.

各种可选型号如下.

MBRAUN可为您提供多种解决方案，包括独立式旋涂设备或者集成了旋涂设备在内的整体方案.

MBRAUN手套箱系统可选配热板用来去除基板表面的水或溶剂，或用于在特定温度环境下对特殊敏感材料进行干燥处理.

MBRAUN所有的热板都是经过特殊设计的，可集成于惰性气体环境或者单独使用. 各种可选的型号如下.

MBRAUN研发出各种工艺设备并将其组装成系统方案用于敏感器件的封装环节，便于完成后续的耐久性测试和效率测试。

MBRAUN 紫外清洗设备用于半导体和光学器件表面清洗，已经广泛运用于电子、半导体工业以及生物、化学、物理、材料科学在内的各种科研领域中. 利用该工艺可生成洁净、不含碳氢化合物的UV 树脂镀层.